非真空加工 —— Openair-Plasma®等离子技术为半导体生产开发新工艺

硅晶片、芯片和高性能半导体是灵敏性极高的电子元件。随着这些技术的发展,真空等离子体技术作为一种制造工艺也随之发展。

 

常压 Openair-Plasma® 等离子工艺的发展开辟了全新的应用潜力,特别是在自动化方面。由于等离子处理不再需要真空,因此可以大大简化工艺流程。

硅晶片的纳米等离子清洗

晶圆制造始于一块半导体材料。这块材料被切割成晶圆,然后通过化学/机械工艺进行抛光,直到达到所需的几纳米表面粗糙度。

在下个步骤中,Openair-Plasma®被用作一种高效且简单的工艺,用于对这些纳米结构进行超精细清洁。使用Openair-Plasma®清洁可以100%去除碳水化合物和颗粒,并显著降低不良率。

牢固接合–通过对接触表面进行等离子体清洗实现可靠引线接合

芯片从晶圆分离之后,要将它们附加到引线框架上并提供外壳来对芯片进行封装。将芯片引线牢固接合到引线框架上的引线接合工艺对于集成电路的可靠工作来说至关重要。引线接合通常在一个超声波步骤中完成;在此步骤中,接触表面必须绝对洁净。

 

使用 Openair-Plasma® 进行干式超精细清洗可可靠地去除全部污染物质以及碳水化合物残留物。因此粘接十分牢固不良品率显著降低。

将芯片粘接到线路板上

“波峰焊接工艺”是一种低成本的加工流程,把电子元件焊接到电路板上。这种工艺的最新发展是采用无铅工艺技术。在波峰焊过程中产品需要经过高温的焊锡槽,这就对通过粘接剂粘附在线路板上的元件的粘接力提出了更高的要求。

 

使用 Openair-Plasma®技术对电子元件表面和芯片表面进行表面活化处理,显示可显著提高粘合剂的性能,粘合剂将元件固定到位以便在焊料槽中进一步加工。

特性与优点

Openair-Plasma® 常压等离子系统

  • 超精细清洁(组件清洁),不损坏敏感结构
  • 表面针对性功能化处理,支持选择性后续加工
  • 精简的工艺布局,显著提高成本效益
  • 降低粘合过程中的不良品率

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