真空等离子系统Aurora Plus

Aurora Plus是先进的薄膜等离子涂层沉积系统。等离子增强化学气相沉积(PECVD)能实现涂层的选择和功能特性,如低 CoF,亲水和疏水涂层。

这使其成为汽车工业、医疗设备技术和密封系统制造等众多应用领域的理想工艺。系统严格的工艺控制和配方存储确保了工业批量生产和研发应用中的安全加工。

主要功能特性

真空等离子系统Aurora Plus

  • 完整的初级等离子系统,可对复杂零件进行均匀处理
  • 独特的的侧壁电极可处理多个搁板或较大的零件
  • 腔室尺寸: 21.5” x 15.74” x 16.5”
  • 带触摸显示屏的工业PLC,可实现严密的过程控制
  • 独立信息存储工艺配方
  • 多个质量流量控制器,用于精确控制气体流量和混合物料
  • 1000瓦, 13.56射频发生器且自动匹配网络RF
  • 增加真空腔体加热和进料管路加热
  • 发生器脉冲可选
  • 加热室可选
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