Openair-Plasma®工艺监控

Openair-Plasma®系统的可用性超过99%,为我们的Plasmatreat客户提供了卓越的工艺能力。Openair-Plasma®喷枪还可配备三重工艺监控,以便快速有效地响应并防止系统故障。

为高工艺品质树立新标杆

光学监测/控制:为了确保均匀的高等离子质量,需要对产生的等离子流进行光谱监控。作为单通道光学检测系统的一部分,等离子喷枪内集成的传感器会持续测量等离子体发出的光。然后再根据辐射光的光谱范围进行稳定的振幅估算。这种监控独立于等离子生成,可靠地描述了等离子体的工艺参数。

运动控制/监测:除了等离子体强度和有效距离外,等离子体喷枪的行程和旋转速度也是处理质量的重要评判标准。用於加工型材、片材或模切紙箱的系統配备了运动控制系统,可確保安全的且高可靠性的加工工序。

控制介质供应:要确保不同的工艺流程的可再现性,尤其是一些特殊的等离子参数,比如温度和等离子强度的可再现性,就必须控制介质的供应。Plasmatreat提供可满足各类需求的监控单元,其中包括微控制器控制的流量测量装置。

迎接工业4.0时代——面向数字化制造流程 

可重复的工艺顺序、高系统可靠性、低制造公差、稳健的质量标准和数据支持的自动化——这些规格只能通过有针对性的工艺控制来实现。Plasmatreat支持数字化生产过程,

等离子控制单元(PCU)旨在控制和监控等离子喷枪。工艺数据通过EtherCAT / CANopen接口传输:PCU通过CANopen连接到发电机。其他电缆用于控制和向等离子喷枪供能。集成变压器(HTR)提供操作喷枪所需的高电压。

PCU控制功能

  • 工艺气体流动控制(流控模块 - FCM)
  • 通过电流和电压控制电机速度(旋转控制模块 - RCM)
  • 选配:等离子体功率控制

监控功能

  • 等离子体目视检查(灯光控制模块 – LCM)
  • 等离子体功率控制/HTR输出测量(等离子体功率测量 – PPM)
  • 旋转监控(旋转控制模块 – RCM)
  • 动态压力监控(压力控制模块 – PCM)

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不妨一试:我们经验丰富的应用工程师将与您一起找到适合应用的最佳解决方案。在我们设备齐全的实验室中,使用定制化的等离子技术预处理您提供的基材并分析结果。