Openair-Plasma®工艺监控

Openair-Plasma® 系统的可用性高于99% ,为Plasmatreat的客户提供了最大工艺处理能力。另外, Openair-Plasma® 喷枪还可配备三重工艺监控模块,以实现高效快速的响应机制, 防止系统停机。

铸就最高工艺水准

光学监测/管理: 为确保均匀而优质的等离子体,需要对产生的等离子体进行连续的光谱监测。在单通道光学检测系统中,等离子体喷枪内集成的一个传感器会测量等离子体发出的光。然后再根据辐射光的光谱范围进行稳定的振幅估算。这一监控过程与等离子体的产生无关, 因此其结果能够作为可靠的等离子体工艺参量。

运动控制/监测: 除了等离子体强度和有效距离外, 等离子体喷枪的行程和旋转速度也是处理质量的重要评判标准。用於加工型材、片材或模切紙箱的系統配備了運動控制系統,可確保安全的加工順序和高生產可靠性。

控制介质供应: 要确保不同的工艺流程的可再现性,尤其是一些特殊的等离子体参数,比如温度和等离子强度的可再现性,就必须控制介质的供应。Plasmatreat提供可满足各类需求的监控单元, 其中包括微控制器控制的流量测量装置。

迎接工业4.0时代 – 面向数字化制造流程 

工序可重复、系统可靠性高、制造公差小、质量标准稳定性出色和数据驱动的自动化 – 唯有针对性地控制流程才能满足这些规范。Plasmatreat正朝着生产流程数字化转型,并基于先进的标准化技术为必备系统组件提供开放、灵活且可互操作的连接。

等离子体控制单元(PCU)专用于控制与监测等离子体喷枪。通过EtherCAT / CANopen协议传输工艺流程数据:PCU经由CANopen总线连至等离子体发生器。其他电缆则用于控制和向等离子体喷枪供能。集成式变压器(HTR)为喷枪工作提供所需的高压。

PCU控制功能

  • 工艺气体流动控制(流控模块 - FCM)
  • 通过电流和电压控制电机速度(旋转控制模块 - RCM)
  • 选配:等离子体功率控制

监控功能

  • 等离子体目视检查(灯光控制模块 – LCM)
  • 等离子体功率控制/HTR输出测量(等离子体功率测量 – PPM)
  • 旋转监控(旋转控制模块 – RCM)
  • 动态压力监控(压力控制模块 – PCM)

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