为高工艺品质树立新标杆

光学监测/控制:为了确保均匀的高等离子质量,需要对产生的等离子流进行光谱监控。作为单通道光学检测系统的一部分,等离子喷枪内集成的传感器会持续测量等离子体发出的光。然后再根据辐射光的光谱范围进行稳定的振幅估算。这种监控独立于等离子生成,可靠地描述了等离子体的工艺参数。
运动控制/监测:除了等离子体强度和有效距离外,等离子体喷枪的行程和旋转速度也是处理质量的重要评判标准。用於加工型材、片材或模切紙箱的系統配备了运动控制系统,可確保安全的且高可靠性的加工工序。
控制介质供应:要确保不同的工艺流程的可再现性,尤其是一些特殊的等离子参数,比如温度和等离子强度的可再现性,就必须控制介质的供应。Plasmatreat提供可满足各类需求的监控单元,其中包括微控制器控制的流量测量装置。