速滑用高性能滑雪板的滑行面现今都是用烧结 UHMWPE（超高分子量聚乙烯）制成。该材料具有微气孔构成的三维蜂窝结构。烧结过程中沉积在这些空腔中的粉尘会堵塞空腔，从而减少蜡的吸收量。创新的常压等离子体工艺的作用就是将微结构中的残留物清除，改善 UHMWPE 表面的性能，使得蜡的吸收量最大化。

其理念是应用 Plasmatreat 的 Openair-Plasma^® 和 PlasmaPlus^® 技术来改善物理化学特性，从而提高滑雪底座的性能。项目目标是：

1. 增加滑雪板底面对蜡的吸附量
2. 提高滑雪板底面的坚固度，以延缓摩擦和热量对其微结构因的损坏

这项工艺的开发和试验始于 2013 年，9个月后，于 2014 年 5 月他们推出了获得技术专利的新成果。

Plasmatreat 技术的多功能性是我们的项目得以成功的一大因素。公司在等离子喷枪活化和沉积工艺方面所掌握的精深知识以及 PlasmaPlus^® 技术的灵活性，使我们能够在短时间内确定最佳工艺参数。我们取得了非凡的成果；事实上，这个工艺将滑雪板板底面的吸附性能提高到惊人的程度，在使用相同的滑雪板准备方法的前提下，它可将蜡吸附量提高四到六倍。该工艺包括两个步骤：

1. 表面净化和活化
2. 等离子体沉积形成一个纳米保护涂层

用光学显微镜分析 UHMWRE 表面的最终结构可以看出空腔扩大并且更清洁。除此之外，沉积在表面上的薄膜还能均匀附着在聚乙烯结构上。打蜡之后的滑动试验表明，显著改善了滑动性能、摩擦阻力更低、并且明显提高了蜡在滑雪板滑动面上的附着时间。

随后的雪上测试甚至超过了实验室的结果，充分证实了使用两种等离子处理技术 Openair-Plasma^® 和 PlasmaPlus^® 结合运用正确的滑雪板准备技术，可以提高滑雪板的性能。2015年3月授予了 PlasmaSki 方法的专利。